J4 ›› 2012, Vol. 25 ›› Issue (6): 1-4.doi: 10.3976/j.issn.1002-4026.2012.06.001
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金光虎,李磊,王越,郝宗睿
JIN Guang-Hu, LI Lei, WANG Yue, HAO Zong-Rui
摘要：
以对氢气易于反应的钯为催化材料、钯的沉积厚度和热处理条件为变量,研究三氧化钨薄膜的物理化学性能及气体反应特性。结果表明，三氧化钨在500 ℃以上时呈现四方晶体的多晶态，钯沉积对三氧化钨的晶体结构没有影响，但是随着钯的添加抑制了三氧化钨的晶粒生长。500 ℃以上热处理时钯在薄膜表面呈现小球状，600 ℃以上热处理时钯粒子在薄膜表面凝结或扩散到材料内部。沉积钯 2 nm的薄膜在工作温度250 ℃时反应灵敏度和恢复特性对氢气的检测特性最好。
中图分类号:
O484.4
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